鈦板和鈦棒的表面反應層是影響鈦工件物理化學性能的主要因素，加工前必須徹底去除表面污染層和缺陷層，鈦板、鈦棒表面物理、機械拋光工藝:

1. 噴砂:

鈦絲鑄件一般首選白剛玉進行噴砂處理，噴砂壓力低于非貴金屬，一般控制在0.45mpa以下。因為當注射壓力過高時，沙子撞擊鈦表面產(chǎn)生強烈的火花，上升的溫度會與鈦表面發(fā)生反應，形成二次污染，影響表面質(zhì)量。時間為15-30秒，只需去除表面的鑄造砂、表面的燒結(jié)層和部分氧化層即可。表面反應層的殘余結(jié)構(gòu)應通過化學酸洗迅速去除。

2. 酸洗:

酸洗可以快速、徹底地去除表面反應層，而不受其他元素的污染。HF-HCL和HF-HNO3酸清洗解決方案可用于鈦的酸洗,但HF-HCL酸清洗溶液的氫吸收很大,雖然HF-HNO3酸清洗溶液的氫吸收很小,所以硝酸的濃度可以控制減少氫的吸收,并與亮光表面可以治療。一般HF的濃度在3%-5%左右，HNO3的濃度在15%-30%左右。噴砂后經(jīng)酸洗可徹底去除鈦板和鈦棒的表面反應層。鈦板和鈦棒表面除了物理拋光和機械拋光外，還存在兩種反應層，分別為:①化學拋光,②電解拋光。

①化學拋光:

化學拋光是通過金屬在化學介質(zhì)中的氧化還原反應來實現(xiàn)的。其優(yōu)點是化學拋光與金屬硬度、拋光區(qū)域和結(jié)構(gòu)形狀無關，與拋光液接觸的所有部件均進行拋光，無需特殊復雜設備，操作方便，更適合結(jié)構(gòu)復雜的鈦基托支架拋光。但由于化學拋光工藝參數(shù)難以控制，需要在不影響精度的前提下對義齒進行良好的拋光。以一定比例制備HF和HNO3是較好的鈦化學拋光溶液。HF是一種還原劑，它能溶解金屬鈦并起到流平作用。濃度小于10%，HNO3起氧化作用，防止鈦的過度溶解和氫的吸收，同時產(chǎn)生光亮效果。鈦拋光液濃度高、溫度低、拋光時間短(1 ~ 2min)。

②電解拋光:

又稱電化學拋光或陽極溶解拋光。由于鈦合金管的導電性低、氧化性能強，所以在HF-H3PO4、HF-H2SO4系列電解液中很難對鈦進行拋光。外加電壓后，鈦陽極立即氧化，使陽極溶解不可能。而低壓使用無水氯電解液對鈦有較好的拋光效果，對于小試樣可以通過鏡面拋光來實現(xiàn)，但對于復雜的修復體無法達到完全拋光的目的。也許通過改變陰極的形狀和添加陰極的方法可以解決這個問題，這需要進一步的研究。